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在半導體及顯示面板制造過程中,工藝用水的純度直接影響產品性能與生產良率。現代水處理系統通過集成多重凈化單元,為精密電子制造提供符合行業標準的工藝介質。
超純水設備
該系統主要應用于以下制造環節:
硅片表面處理:去除微米級顆粒物及有機殘留
光伏組件清洗:提升光電轉換效率
顯示面板制造:防止雜質影響顯示單元精度
系統工藝流程包含三個主要階段:
預處理單元去除懸浮物及大分子有機物
膜分離單元完成主體脫鹽處理
電化學處理單元去除痕量離子雜質
技術特性體現在:
全流程自動化控制,減少人為操作誤差
采用非化學再生工藝,降低環境影響
模塊化設計適應不同生產規模需求
實時監測系統保障出水品質穩定性
在能效管理方面,系統通過優化流程設計實現水資源高效利用,同時控制能源消耗。處理過程中產生的廢水量顯著低于傳統工藝,符合清潔生產要求。
隨著智能制造技術的發展,水處理系統正朝著智能監控、柔性配置的方向演進。技術創新持續推動電子制造工藝升級,為行業可持續發展提供基礎保障。
技術資料
萊特萊德工程案例